场发射透射电子显微镜

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场发射透射电子显微镜

厂家：FEI 型号：Talos F200S

仪器简介：

功能特点：TEM用于观察样品内部组织形貌，特别适用于对纳米级样品的观测；具有结构相的样品，能在高倍数下观测到晶格条纹。其中，STEM综合扫描和普通透射电子分析的特点，可以观察较厚的试样和低衬度的试样，得到原子序数衬度像。EDS支持点、线及面上的元素扫描，能准确分析样品的元素分布。

优势：FEI Talos F200S 融合了出色的高分辨率扫描/透射电子显微镜 (STEM) 和 TEM 成像功能与行业领先的能量色散 X 射线光谱仪 (EDS)。在 STEM 成像上具有极大的多功能性和极高的通量。与此同时，FEI Talos F200S 还提供最高的稳定性和最长的正常运行时间。

主要技术参数：

1.分辨率：信息分辨率≤ 0.12 nm；点分辨率≤ 0.25 nm；扫描透射(STEM)分辨率≤ 0.16 nm。

2.放大倍数：TEM放大倍数25 - 1050 k；STEM放大倍数150 – 230 M。

3.肖特基场发射电子枪加速电压：最高200 kV。

4.能谱仪探测器：两个集成在极靴内的SDD 探头，无窗设计；EDS立体角≥ 0.45srad；能量分辨率(10 kcps)≤ 136 eV (Mn-Ka)。

应用领域

应用于材料科学、半导体、纳米技术等领域的显微形貌、晶体结构和相组织的观察与分析。各种材料微区化学成分的定性和半定量检测。